Powlekarka Physical Vapor Deposition (PVD) to zaawansowane urządzenie przemysłowe służące do nakładania cienkich, bardzo trwałych warstw na powierzchnię różnych komponentów. Proces zachodzi w komorze wysokiej próżni, zapobiegając zanieczyszczeniom i zapewniając czystą, przylegającą powłokę.

Podstawowa technika polega na odparowaniu stałego materiału, znanego jako cel, który następnie kondensuje na podłożu, czyli obiekcie, który ma być powlekany. Typowe metody PVD obejmują rozpylanie i odparowywanie. W rozpylaniu energetyczne jony bombardują cel, wyrzucając atomy, które przemieszczają się przez próżnię, aby osadzić się na podłożu. W odparowywaniu materiał docelowy jest podgrzewany, aż do odparowania. Te odparowane atomy przemieszczają się następnie w linii prostej, aby pokryć podłoże, często wymagając systemów obrotu planetarnego w celu uzyskania równomiernego pokrycia na złożonych geometriach.

Powłoki PVD, takie jak azotek tytanu lub azotek chromu, słyną z wyjątkowej twardości, odporności na zużycie i ochrony przed korozją. Znacząco poprawiają wydajność i żywotność narzędzi, instrumentów medycznych, części samochodowych i elektroniki użytkowej. Proces ten jest również przyjazny dla środowiska w porównaniu z tradycyjnym galwanizowaniem, ponieważ generuje minimalną ilość odpadów niebezpiecznych. Powstałe warstwy są niezwykle cienkie, zwykle tylko kilka mikronów, ale zapewniają znaczną poprawę właściwości powierzchniowych bez zmiany wymiarów komponentu. Technologia ta jest niezbędna do produkcji precyzyjnych produktów o wysokiej trwałości.